跳到正文
华尔街见闻·要闻·· 1 天前精选AI 评分29

华为半导体黄宇:韬定律最大挑战在于EDA工具

AI 导读

华为半导体EDA首席科学家黄宇表示,韬定律的最大挑战在于EDA工具。韬定律分为器件、链路、芯片和系统四层,分别涉及器件结构与互联优化、链路创新、软硬件协同设计,以及超级节点和机柜互联。

正文

10月15日,在2026湾芯展上,华为半导体EDA首席科学家黄宇表示,华为的韬定律主要分四层:最基础的器件层,优化晶体管结构和互联方式,从源头压缩器件时间常数;第二层是链路层,这是华为最大的创新点;第三层是芯片层,软硬件协同设计,形成新架构;第四层是系统层,即大家熟知的超级节点、机柜互联,需要更好的通讯协议和更快的速度。

来源:华尔街见闻·要闻 · wallstreetcn.com