朗道燧岩国产EUV光源样机首次亮相，国产化率达90%

上观：中国极紫外光源样机国产化率达90%，目前距离量产还需3-5年

AI 导读

朗道燧岩的国产极紫外（EUV）光源系统样机在第二十六届中国国际工业博览会上首次公开展示，现场工作人员介绍其国产化率达90%，可用于芯片曝光测试。该样机距离量产还需3-5年。

推荐理由

样机国产化率达到90%，但距离量产仍需3-5年，材料呈现了国产EUV光源从展示和测试走向产业化的进度差距。

正文

第二十六届中国国际工业博览会正在国家会展中心（上海）举行，创新科技馆百余项上海科创成果集中登场。在朗道燧岩的展位前，一台极紫外（EUV）光源系统样机迎来工博会首秀，这也是目前公开展示中进度最靠前的国产EUV光源样机，也被称作高端光刻机的“心脏”。极紫外光源是7纳米及以下先进制程芯片制造的三大核心零部件之一，长期受海外技术垄断与禁运限制，是制约我国高端芯片自主可控的关键环节。现场工作人员介绍，本次展出的光源系统国产化率达90%，绝大多数核心零部件为自主研发，技术路线与国际领先厂商一致，可用于芯片曝光测试。尽管目前距离量产还需3-5年，但这一突破已迈出了国产EUV光源从实验室走向产业化的关键一步。（上观）